公司新闻 - 沈阳美济真空科技有限公司

高真空蒸发镀膜设备的主要配置及性能

发表于： 2018-12-17 16:57:10 共有776次阅读

蒸镀室配置： 1、真空获取系统： 1200L/S分子泵、KF40高真空截止阀、KF40波纹管管路、KF40不锈钢三通、KF40真空充气阀、高低真空计、CF200超高真空气动闸..
高真空蒸发镀膜设备简介

发表于： 2018-12-17 16:57:14 共有683次阅读

该设备为方型室蒸镀设备，可满足用户实现单质膜，多层膜及镀制复合膜的工艺要求。蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀..
磁控溅射设备性能

发表于： 2018-12-17 16:57:16 共有331次阅读

溅射设备主体均为不锈钢制造，耐腐蚀、抗污染、漏率小;设备电控部分采用了先进的检测和控制系统，配置了较先进的PLC触摸编程控制，为用户做多层膜提供了良好的设备功能保证，..
磁控溅射与分子束外延设备概述

发表于： 2018-12-17 16:57:19 共有370次阅读

1、平台用途：该平台是一种超高多靶磁控溅射沉积—多功能电子束—分子束联合蒸发镀膜实验平台，用磁控溅射的方法制备孤立分散..

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