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高真空蒸发镀膜设备简介

发布日期:2018-12-17 15:26:59 50


    该设备为方型室蒸镀设备,可满足用户实现单质膜,多层膜及镀制复合膜的工艺要求。

    蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜,适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等,整套设备操作简便,综合功能多,扩展空间大,适合及满足院校的教学与科研。

    本设备由于采用了超高真空密封技术,极限真空高,恢复工作真空时间短;整机主要采用金属密封技术及超高真空阀门,前后开门采用氟胶圈,真空管路用不锈钢金属波纹管路,避免了传统结构带来的安装维护困难的问题。

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