3T技术系统简介

    普通玻化石的生产工艺决定了其砖体会蕴含许多微气孔和微裂纹。砖体经抛磨后，微气孔和微裂纹通过抛光后开放于抛光面上，并展延扩大。同时，在抛磨过程中，陶瓷基粒局部崩裂，产生微小凹坑，使表面有点细微的粗糙。上述玻化石的天生缺陷，使其易渗透和藏纳污染物，并且不易清洁而留下污渍。

    3T技术系统的纳米抗污工艺技术，就是为了克服玻化石的抗污难题而开发的。我们把粒径在15-70个纳米之间的纳米材料做成亲水性的浆料，利用砖体本身的亲水性，经独特的工艺方法，将纳米粒子导入砖体开放于表面的微气孔和崩裂纹中，经反复多次的挤压填塞，直至将气孔和微裂纹堵住，达到修补粗糙的局部崩裂表面和凹坑的效果。完成上述工艺后，再通过高分子材料渗透到纳米粒子之间的空隙里，反应后**终形成稳定的砖体——纳米粒子（高分子之间的网状分子键结构体），从而完全封堵污染源的渗入通道，而达到抗污的目的。并且玻化石表面的缺陷得到修复，所以光泽度提高到了90度以上，使玻化石原有色彩更亮透，纹理的立体感更强。

     3T技术系统由于抗污性能好，所以不需要在玻化石表面再镀一层较厚的防护膜。这样既保留了玻化石原有的韵味，又克服了一般纳米镀膜玻化石容易磨花的缺陷。同时，摈弃了对所谓镜面效果的追求。另外，在纳米材料中加入银离子、锐化钠米二氧化钛等杀菌材料，即可达到自洁杀菌之功效。这种采用纳米抛光填塞、抗污杀菌的技术，我们称之为“3T技术”。